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Nitrure de titane

Le nitrure de titane est un composĂ© chimique de formule TiN. Il s'agit d'une cĂ©ramique ultrarĂ©fractaire trĂšs dure et rĂ©sistante Ă  la corrosion. Il est couramment utilisĂ© comme revĂȘtement des alliages de titane et des composants en acier, en carbures et en aluminium afin d'en amĂ©liorer les propriĂ©tĂ©s des surfaces. Il est appliquĂ© en couche mince, gĂ©nĂ©ralement de moins de 5 ÎŒm d'Ă©paisseur, par exemple en bijouterie en raison de sa couleur dorĂ©e, sur les cĂ©ramiques hautes performances pour en protĂ©ger et durcir les surfaces tranchantes ou soumises Ă  des frottements en raison de ses propriĂ©tĂ©s mĂ©caniques, ou encore sur les instruments mĂ©dicaux tels que les lames de bistouri et les lames de scies Ă  os orthopĂ©diques en raison de sa biocompatibilitĂ©. Il peut Ă©galement ĂȘtre utilisĂ© comme couche conductrice et barriĂšre de diffusion en microĂ©lectronique, comme Ă©lectrode dans les applications bioĂ©lectroniques, et plus gĂ©nĂ©ralement comme revĂȘtement de surface sur les implants mĂ©dicaux.

Nitrure de titane
Image illustrative de l’article Nitrure de titane
__ Ti __ N
Structure cristalline du nitrure de titane
Identification
Nom UICPA azanylidynetitane
Synonymes

nitrotitane

No CAS 25583-20-4
No ECHA 100.042.819
No CE 247-117-5
No RTECS XR2230000
PubChem 93091
SMILES
InChI
Apparence solide cristallisé de couleur dorée[1]
Propriétés chimiques
Formule NTi [IsomĂšres]
Masse molaire[2] 61,874 ± 0,001 g/mol
N 22,64 %, Ti 77,36 %,
Propriétés physiques
T° fusion 2 930 °C[3]
Solubilité Insoluble dans l'eau[4]
Masse volumique 5,24 g·cm-3[3]

Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire.

Propriétés

RevĂȘtement d'un foret HSS en TiN.

Propriétés physiques

Le nitrure de titane prĂ©sente une duretĂ© Vickers de 1 800 Ă  2 100, un module d'Ă©lasticitĂ© de 251 GPa, un coefficient de dilatation thermique de 9,35×10−6 K−1 et une tempĂ©rature de transition supraconductrice de 5,6 K[5] - [6]. Il a Ă©galement une conductivitĂ© thermique de 29,1 W·m−1·K−1, une constante de Hall de 0,67, une susceptibilitĂ© magnĂ©tique de + 0,8 et une rĂ©sistivitĂ© Ă©lectrique de 20 ”Ω·cm.

Dans une atmosphĂšre normale, le nitrure de titane s'oxyde Ă  800 °C. Les tests en laboratoire montrent qu'il est chimiquement stable Ă  20 °C mais qu'il peut ĂȘtre progressivement attaquĂ© par des solutions d'acide concentrĂ©es Ă  tempĂ©rature croissante[5]. Le coefficient de frottement sans lubrifiant entre deux surfaces de nitrure de titane varie de 0,4 Ă  0,9 selon la nature et la finition de ces surfaces.

Le nitrure de titane prĂ©sente une structure cristalline semblable Ă  celle du chlorure de sodium, dans laquelle les atomes de titane forment un rĂ©seau cubique Ă  faces centrĂ©es, les atomes d'azote occupant les sites interstitiels octaĂ©driques de la structure. La stƓchiomĂ©trie du matĂ©riau est voisine de 1:1, mais les substances TiNx avec x compris entre 0,6 et 1,2 sont thermodynamiquement stables[7].

À l'opposĂ© de solides non mĂ©talliques comme le diamant, le carbure de bore B4C ou le carbure de silicium SiC, le nitrure de titane prĂ©sente un comportement mĂ©tallique. Il est par exemple conducteur de l'Ă©lectricitĂ©. Le coefficient thermique de rĂ©sistance Ă©lectrique est positif et son comportement magnĂ©tique se signale par un faible paramagnĂ©tisme thermodĂ©pendant.

Un monocristal de nitrure de titane devient supraconducteur en dessous d'une tempĂ©rature critique de 6,0 K[8]. La supraconductivitĂ© des couches minces de nitrure de titane a Ă©tĂ© Ă©tudiĂ©e en dĂ©tail et a montrĂ© que les propriĂ©tĂ©s supraconductrices de ce matĂ©riau varient sensiblement en fonction de la prĂ©paration des Ă©chantillons. Une couche mince de nitrure de titane refroidie prĂšs du zĂ©ro absolu a permis d'observer l'un des premiers supra-isolants[9], dont la rĂ©sistance Ă©lectrique a brutalement Ă©tĂ© multipliĂ©e par 100 000 par rapport au matĂ©riau Ă  tempĂ©rature plus Ă©levĂ©e.

Le point de fusion du nitrure de titane est de l'ordre de 2 930 °C et le liquide se dĂ©compose par chauffage avant d'atteindre son point d'Ă©bullition. Le solide prĂ©sente de bonnes caractĂ©ristiques tribologiques et s'avĂšre donc intĂ©ressant pour les systĂšmes requĂ©rant une bonne rĂ©sistance Ă  l'usure. L’affinitĂ© pour les autres substances est trĂšs faible. Le nitrure de titane a un important pouvoir rĂ©flĂ©chissant au rayonnement infrarouge, et son spectre par rĂ©flexion est identique Ă  celui de l’or.

Par dopage avec du silicium amorphe, les propriétés mécaniques du nitrure de titane changent radicalement : il devient cassant et plus dur.

Les propriĂ©tĂ©s physiques remarquables de ce matĂ©riau sont contrebalancĂ©es par sa fragilitĂ©, qui conduisent Ă  l'employer principalement comme film de revĂȘtement.

Propriétés chimiques

Le nitrure de titane est pratiquement inerte chimiquement Ă  tempĂ©rature ambiante. Il ne prĂ©sente les premiers signes d'attaque qu'Ă  des tempĂ©ratures supĂ©rieures Ă  600 °C dans l'air, et ne s'oxyde vraiment que dans une atmosphĂšre saturĂ©e en oxygĂšne O2 ou en dioxyde de carbone CO2 Ă  plus de 1 200 °C. Dans un bain d'hydroxyde de sodium NaOH chauffĂ©, il se dissocie avec Ă©mission d'ammoniac NH3. Il rĂ©siste Ă  froid Ă  l'acide chlorhydrique HCl, Ă  l'acide sulfurique H2SO4, Ă  l'acide nitrique HNO3 et Ă  l'acide fluorhydrique HF ainsi qu'Ă  l'hydroxyde de sodium, et mĂȘme Ă  la vapeur d'eau H2O chauffĂ©e Ă  100 °C, mais est attaquĂ© par ces acides concentrĂ©s Ă  chaud[10]. Il reste stable en prĂ©sence de mĂ©taux rĂ©actifs fondus.

Production

Le nitrure de titane est gĂ©nĂ©ralement produit sous forme de films d'Ă©paisseur micromĂ©trique, plus rarement sous forme de cĂ©ramique ou de poudre. On peut le fabriquer Ă  partir des deux Ă©lĂ©ments Ă  des tempĂ©ratures supĂ©rieures Ă  1 200 °C, en veillant Ă  Ă©vacuer l'oxygĂšne de l'air et l’hydrogĂšne, contrainte prĂ©judiciable Ă  une exploitation industrielle. Ce procĂ©dĂ© de nitruration directe du titane est reprĂ©sentĂ© par l'Ă©quation suivante :

2 Ti + N2 ⟶ 2 TiN.

L'autre façon de produire du nitrure de titane est l’ammonolyse en phase gazeuse, Ă  des tempĂ©ratures supĂ©rieures Ă  900 °C. Ce procĂ©dĂ© rĂ©duit l'Ă©tat d'oxydation du titane prĂ©sent dans le tĂ©trachlorure de titane TiCl4 de +4 Ă  +3, ce qui permet de le lier en nitrure de titane ; l'Ă©lectron est cĂ©dĂ© par l'azote de l'ammoniac NH3. Comme dans le cas de la nitruration directe du titane, il faut lĂ  encore Ă©liminer l'oxygĂšne et l’hydrogĂšne du milieu rĂ©actionnel. L’ammonolyse en phase gazeuse peut ĂȘtre rĂ©sumĂ©e par l'Ă©quation suivante :

4 TiCl4 + 6 NH3 ⟶ 4 TiN + 16 HCl + N2 + H2.

Un excĂšs d'ammoniac produit du chlorure d'ammonium NH4Cl.

Formation de couches minces

Films de nitrure de titane de concentration en azote croissante de gauche Ă  droite.

La nitruration directe du titane peut ĂȘtre menĂ©e Ă  bien dans un bain (sel fondu) d’acide cyanhydrique (cyanure de potassium KCN / carbonate de potassium K2CO3). Les procĂ©dĂ©s courants sont ici la cĂ©mentation de surface dans un bain de cyanure (procĂ©dĂ© TIDURAN), la nitruration Ă  haute pression (procĂ©dĂ© TIDUNIT) et la nitruration par plasma dans une atmosphĂšre d’hydrogĂšne et d’azote. Le film de nitrure comporte ordinairement une couche de liaison de 10 ÎŒm d’épaisseur et une couche de diffusion de 50 Ă  200 ÎŒm d’épaisseur. Par nitruration au plasma, il est possible d'obtenir un film sans couche de liaison.

La synthĂšse de couches minces de nitrure de titane Ă  partir de tĂ©trachlorure de titane TiCl4 et d’azote N2 dans un plasma d’hydrogĂšne est rĂ©sumĂ©e par l'Ă©quation chimique suivante :

2 TiCl4 + 4 H2 + N2 ⟶ 2 TiN + 8 HCl.

Des couches minces de nitrure de titane, qui prĂ©sentent des propriĂ©tĂ©s semiconductrices sur le dioxyde de silicium SiO2, peuvent ĂȘtre formĂ©es par dĂ©pĂŽt chimique en phase vapeur (CVD) de tĂ©trakis(dimĂ©thylamino)titane[11] (TDMAT), de formule Ti[N(CH3)2]4.

Il est possible de revĂȘtir les mĂ©taux et certains polymĂšres de couches minces de nitrure de titane principalement par dĂ©pĂŽt physique en phase vapeur (PVD), par exemple par pulvĂ©risation cathodique[12]. Il s'agit dans ce dernier cas de bombarder une cathode en titane par des ions de gaz noble (argon), ce qui a pour effet de fixer l'atome de titane et l'azote vaporisĂ©s sur le substrat. La concentration d’azote dans l’atmosphĂšre dĂ©termine sa concentration finale dans le film dĂ©posĂ©[13]. Il est possible d'obtenir du titane pur, du Ti2N et du TiN selon la teneur en azote choisie. Les propriĂ©tĂ©s physiques du matĂ©riau obtenu dĂ©pendent Ă©galement de leur stƓchiomĂ©trie : la couleur tire davantage vers le brun et le bronze tandis que la duretĂ© est moitiĂ© moindre pour les formulations super-stƓchiomĂ©triques.

Le dĂ©pĂŽt physique en phase vapeur est la technique privilĂ©giĂ©e avec les piĂšces en acier car la tempĂ©rature de la rĂ©action est supĂ©rieure Ă  la tempĂ©rature d'austĂ©nitisation de l'acier. Il peut ĂȘtre utilisĂ© Ă©galement sur divers matĂ©riaux ayant un point de fusion plus Ă©levĂ©, comme l'acier inoxydable, le titane et les alliages de titane. Son module d'Young Ă©levĂ© — des valeurs comprises entre 450 et 590 GPa ont Ă©tĂ© rapportĂ©es dans la littĂ©rature[14] — signifie que les couches Ă©paisses tendent Ă  s'Ă©cailler, ce qui les rend moins durables que les couches minces.

Production de nitrure de titane massif

L'obtention de cĂ©ramiques en nitrure de titane massif est plus difficile, car la covalence Ă©levĂ©e du nitrure de titane pur se traduit par une frittabilitĂ© rĂ©duite. C'est pourquoi il est nĂ©cessaire de concentrer le nitrure de titane, de recourir Ă  des poudres rĂ©actives et d’appliquer une pression extĂ©rieure importante pour mener Ă  bien le formage. Faute d'une pression ambiante suffisante, les cĂ©ramiques obtenues n'auront pas la densitĂ© thĂ©orique, entre autres dĂ©fauts. Il existe pourtant un procĂ©dĂ©, consistant Ă  employer une poudre extrĂȘmement fine (dite nanopoudre), qui permet d'Ă©viter le recours aux hautes pressions.

Utilisations

Poinçons revĂȘtus de nitrure de titane.
Plaquette d'outil Ă  fileter revĂȘtu d'un film de nitrure de titane.

On utilise des revĂȘtements en nitrure de titane afin de limiter l'usure des arĂȘtes et la corrosion des surfaces sur les outils de coupe tels que forets, poinçons et fraiseuses, notamment sur les piĂšces en acier rapide ou dans les armes Ă  feu, dont la durĂ©e de vie peut ĂȘtre multipliĂ©e par trois, voire davantage. Ces revĂȘtements dorĂ©s sont trĂšs fins et excĂšdent rarement 4 ÎŒm d'Ă©paisseur, des couches plus Ă©paisses ayant tendance Ă  se craqueler. Le mĂ©tal enrobĂ© doit ĂȘtre suffisamment dur, c'est-Ă -dire prĂ©senter une rĂ©sistance en compression Ă©levĂ©e afin qu'un poinçonnement ne perce le revĂȘtement.

Le nitrure de titane est à la fois biocompatible et biostable, de sorte qu'il est utilisé sur des instruments chirurgicaux ainsi que sur des prothÚses, notamment les implants de la hanche ou comme électrodes de stimulateurs cardiaques. Plus généralement, il est employé dans les électrodes d'applications bioélectroniques[15] comme des implants intelligents ou des biocapteurs in vivo devant résister à la forte corrosion induite par les fluides corporels. Des électrodes en nitrure de titane ont déjà été utilisées pour des prothÚses visuelles (en)[16] ainsi que pour des systÚmes microélectromécaniques biomédicaux[17] (Bio-MEMS (en)).

En raison de sa non-toxicité et de sa couleur dorée, le nitrure de titane est souvent utilisé pour recouvrir des objets de la vie courante en contact étroit avec l'organisme ou les aliments, comme des bijoux de fantaisie, des montures de lunettes, des montres, des bracelets, des ustensiles de cuisine, voire des garnitures automobiles, à des fins décoratives. Il est également utilisé comme couche superficielle, généralement sur des surfaces plaquées avec du nickel ou du chrome, sur des fixations de plomberie ou des accessoires de portes.

Bien que moins visibles dans cet usage, les couches minces de nitrure de titane sont Ă©galement utilisĂ©es en microĂ©lectronique, oĂč elles servent de connexions conductrices entre les couches actives et les contacts mĂ©talliques tout en jouant le rĂŽle de barriĂšre de diffusion entre le mĂ©tal et le silicium. Dans ce contexte, le nitrure de titane est classĂ© comme « mĂ©tal barriĂšre » bien qu'il s'agisse clairement d'une cĂ©ramique du point de vue chimique et du comportement mĂ©canique. La conception rĂ©cente de puces en technologie 45 nm et en deçà utilise Ă©galement du nitrure de titane comme « mĂ©tal » pour amĂ©liorer les performances des transistors. En combinaison avec des diĂ©lectriques high Îș comme HfSiO, qui ont une permittivitĂ© supĂ©rieure Ă  celle du dioxyde de silicium SiO2 standard, la longueur de la grille peut ĂȘtre rĂ©duite avec une faible fuite, un courant de commande plus Ă©levĂ© et une tension de seuil identique ou supĂ©rieure[18].

Le nitrure de titane fait Ă©galement l'objet d'utilisations plus spĂ©cifiques. Par exemple, des couches minces de nitrure de titane sont Ă©tudiĂ©es comme revĂȘtement d'alliages de zirconium pour combustibles nuclĂ©aires tolĂ©rants aux accidents[19] - [20]. La duretĂ©, la rĂ©sistance Ă  l'usure et le pouvoir dissipatif Ă©levĂ©s du nitrure de titane en font un matĂ©riau de choix pour la fabrication des paliers dans les machines de prĂ©cision et les rotors. Ses propriĂ©tĂ©s anti-adhĂ©rentes permettent son utilisation comme revĂȘtement de protection Ă  haute tempĂ©rature. Son faible coefficient de frottement est mis Ă  profit dans son utilisation comme revĂȘtement d'essieu dans les amortisseurs ainsi qu'en hydraulique industrielle. Sa trĂšs grande stabilitĂ© aux tempĂ©ratures Ă©levĂ©es permet le frittage en mĂ©tallurgie des poudres. Il peut ĂȘtre employĂ© comme additif afin d'accroĂźtre la conductivitĂ© Ă©lectrique de cĂ©ramiques dans les machines.

Consignes de sécurité

Le nitrure de titane ne prĂ©sente presque aucun danger, puisqu'il est ininflammable, inerte et de surcroĂźt biocompatible. Les directives de l'Union EuropĂ©enne ne le considĂšrent pas comme dangereux et n'imposent donc pas de signalĂ©tique le concernant. Il est considĂ©rĂ© comme non-polluant dans l'eau. Les poussiĂšres de nitrure de titane sont (comme pour les autres mĂ©taux) dangereuses pour la santĂ©. Le seuil de tolĂ©rance d'aprĂšs l’OSHA est de 15 mg m−3.

Notes et références

  1. Thieme Chemistry, RÖMPP Online : Version 3.5, Stuttgart, Georg Thieme Verlag KG,
  2. Masse molaire calculĂ©e d’aprĂšs « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
  3. Fiche Sigma-Aldrich du composĂ© Titanium nitride <3 ÎŒm, consultĂ©e le 8 janvier 2019.
  4. « Fiche du composé Titanium nitride, 99.7% (metals basis) », sur Alfa Aesar (consulté le ).
  5. (en) Hugh O. Pierson, Handbook of refractory carbides and nitrides: properties, characteristics, processing, and applications, William Andrew, 1996, p. 193. (ISBN 978-0-8155-1392-6)
  6. (en) D. S. Stone, K. B. Yoder et W. D. Sproul, « Hardness and elastic modulus of TiN based on continuous indentation technique and new correlation », Journal of Vacuum Science & Technology A, vol. 9, no 4,‎ , p. 2543-2547 (DOI 10.1116/1.577270, Bibcode 1991JVST....9.2543S, lire en ligne)
  7. (en) L. E. Toth, Transition Metal Carbides and Nitrides, Academic Press, New York, 1971. (ISBN 978-0-12-695950-5)
  8. (en) W. Spengler, R. Kaiser, A. N. Christensen et G. MĂŒller-Vogt, « Raman scattering, superconductivity, and phonon density of states of stoichiometric and nonstoichiometric TiN », Physical Review B, vol. 17, no 3,‎ , p. 1095-1101 (DOI 10.1103/PhysRevB.17.1095, Bibcode 1978PhRvB..17.1095S, lire en ligne)
  9. (en) Valerii M. Vinokur, Tatyana I. Baturina, Mikhail V. Fistul, Aleksey Yu. Mironov, Mikhail R. Baklanov et Christoph Strunk, « Superinsulator and quantum synchronization », Nature, vol. 452, no 7187,‎ , p. 613-615 (PMID 18385735, DOI 10.1038/nature06837, Bibcode 2008Natur.452..613V, lire en ligne)
  10. (en) Hugh O. Pierson, Handbook of refractory carbides and nitrides : properties, characteristics, processing, and applications, William Andrew, , 340 p. (ISBN 0-8155-1392-5, lire en ligne), p. 193
  11. (en) M. Meyyappan, D. J. Economou, S. Watts Butler, Proceedings of the Symposium On Process Control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing, The Electrochemical Society, 1995, p. 399 sqq.. (ISBN 978-1-56677-096-5)
  12. (de) Benedikt Martin, Herstellung und Charakterisierung gesputterter TiN-Schichten auf Kupferwerkstoffen, Aix-la-Chapelle, Shaker, coll. « Berichte aus der Fertigungstechnik », , 134 p. (ISBN 3-86111-950-1)
    original : thÚse de l'Université de Stuttgart (1994)
  13. (en) Keizo Uematsu, Nobuo Kieda, Osamu Sakurai, Nobuyasu Mizutani et Masanori Kato, « Effect of Non-stoichiometry on the Sintering of TiNx », Journal of the Ceramic Association, Japan, vol. 90, no 1046,‎ , p. 597-603 (DOI 10.2109/jcersj1950.90.1046_597, lire en ligne)
  14. (en) G. Abadias, « Stress and preferred orientation in nitride-based PVD coatings », Surface and Coatings Technology, vol. 202, no 11,‎ , p. 2223-2235 (DOI 10.1016/j.surfcoat.2007.08.029, lire en ligne)
  15. (en) M.Birkholz, K.-E. Ehwald, D. Wolansky, I. Costina, C. Baristiran-Kaynak, M. Fröhlich, H. Beyer, A. Kapp et F. Lisdat, « Corrosion-resistant metal layers from a CMOS process for bioelectronic applications », Surface and Coatings Technology, vol. 204, nos 12-13,‎ , p. 2055-2059 (DOI 10.1016/j.surfcoat.2009.09.075, lire en ligne)
  16. (en) Hugo HĂ€mmerle, Karin Kobuch, Konrad Kohler, Wilfried Nisch, Helmut Sachs et Martin Stelzle, « Biostability of micro-photodiode arrays for subretinal implantation », Biomaterials, vol. 23, no 3,‎ , p. 797-804 (PMID 11771699, DOI 10.1016/S0142-9612(01)00185-5, lire en ligne)
  17. (en) M. Birkholz, K.‐E. Ehwald, P. Kulse, J. Drews, M. Fröhlich, U. Haak, M. Kaynak, E. Matthus, K. Schulz et D. Wolansky, « Ultrathin TiN Membranes as a Technology Platform for CMOS‐Integrated MEMS and BioMEMS Devices », Advanced Functional Materials, vol. 21, no 9,‎ , p. 1652-1656 (DOI 10.1002/adfm.201002062, lire en ligne)
  18. (en) Thaddeus G. Dziura, Benjamin Bunday, Casey Smith, Muhammad M. Hussain, Rusty Harris, Xiafang Zhang et Jimmy M. Price, « Measurement of high-k and metal film thickness on FinFET sidewalls using scatterometry », Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXII. Edited by John A. Allgair, Christopher J. Raymond, Proceedings of the SPIE, vol. 6922,‎ , article no 69220V (DOI 10.1117/12.773593, Bibcode 2008SPIE.6922E..29D, lire en ligne)
  19. (en) Matheus A. Tunes, Felipe C. da Silva, Osmane Camara, Claudio G. Schön, Julio C. SagĂĄs, Luis C. Fontana, Stephen E. Donnelly, Graeme Greaves et Philip D. Edmondson, « Energetic particle irradiation study of TiN coatings: are these films appropriate for accident tolerant fuels? », Journal of Nuclear Materials, vol. 512,‎ , p. 239-245 (DOI 10.1016/j.jnucmat.2018.10.013, Bibcode 2018JNuM..512..239T, lire en ligne)
  20. (en) Ece Alat, Arthur T. Mottaa, Robert J. Comstock, Jonna M. Partezana et Douglas E. Wolfe, « Multilayer (TiN, TiAlN) ceramic coatings for nuclear fuel cladding », Journal of Nuclear Materials, vol. 478,‎ , p. 236-244 (DOI 10.1016/j.jnucmat.2016.05.021, Bibcode 2016JNuM..478..236A, lire en ligne)

Bibliographie

  • M. Desmaison-Brut, L. Themelin, F. Valin, M. BoncƓur: Mechanical Properties of Hot-Isostatic-Pressed Titanium Nitride. In: G. de With, R. A. Terpstra, R. Metselaar (Ă©d.): Euro-Ceramics. vol. 3: Engineering ceramics. Elsevier Applied Science, Londres etc. 1989, (ISBN 1-85166-432-7), p. 258–262.
  • M. Diserensa, J. Patscheider, F. LĂ©vy: Mechanical Properties and Oxidation Resistance of Nanocomposite TiN-SiNx Physical-Vapour-Deposited Thin Films. In: Surface and Coatings Technology. vol. 120/121, , (ISSN 0257-8972), p. 158–165, DOI 10.1016/S0257-8972(99)00481-8.
  • D. E. Wolfe, J. Singh: Microstructural Evolution of Titanium Nitride (TiN) coatings produced by reactive ion beam-assisted, electron beam physical vapor deposition (RIBA, EB-PVD). In: Journal of Materials Science. vol. 34, no 12, 1999, (ISSN 0022-2461), p. 2997–3006, DOI 10.1023/A:1004668325924.
  • Florian Kauffmann: Mikrostruktur und Eigenschaften von Titannitrid-Siliciumnitrid-Schichten (site du Max-Planck-Institut fĂŒr Metallforschung. Rapport n°. 140). Institut Max-Planck de MĂ©tallurgie, 2003 (thĂšse de doctorat de l’UniversitĂ© de Stuttgart, 2003).
  • Sener Albayrak: Kolloidale Verarbeitung und Sintern von nanoskaligem TiN-Pulver. Sarrebruck 1997, publiĂ© en 2002 (Sarrebruck, thĂšse de doctorat de l’UniversitĂ© de la Sarre, 1997).
  • Minoru Moriyama, Hiroo Aoki, Yoshikazu Kobayashi, Kiichiro Kamata: The Mechanical Properties of Hot-Pressed TiN Ceramics with Various Additives. In: Journal of the Ceramic Society of Japan. vol. 101, no 3 = no 1171, 1993, (ISSN 0914-5400), p. 279–284.
  • JĂŒrgen Crummenauer: TiN-Beschichtungen mittels Plasma-CVD. Aix-la-Chapelle, Shaker 1995, (ISBN 3-8265-0732-0) (original:thĂšse de doctorat de l’UniversitĂ© de BrĂȘme, 1994).
  • Blagica Bliznakovska, Milosav MiloĆĄevski: Analysis methods and techniques for hard thin layer coatings characterization in particular on Titanium Nitride (= Scientific series of the International Bureau. vol. 15). Forschungszentrum, Zentralbibliothek, Juliers 1993, (ISBN 3-89336-109-X).
  • Wolfram Kamke: Stimulations- und Wahrnehmungseigenschaften neuer Herzschrittmacherelektroden aus Iridiumnitrid und Titannitrid und deren Bedeutung fĂŒr die VerlĂ€ngerung der Funktionsdauer von Herzschrittmachern. Berlin 1993 (Berlin, thĂšse de doctorat de l’UniversitĂ© Humboldt, 1994).
  • F. Preißer, P. Minarski, P. Mayr, F. Hoffmann: Hochdrucknitridieren von Titanwerkstoffen. In: HĂ€rterei-technische Mitteilungen. vol. 46, no 6, 1991, (ISSN 0017-6583), p. 361–366.
  • Rishi Pal Singh, Roger D. Doherty: Synthesis of Titanium Nitride Powders under Glow Discharge Plasma. In: Materials Letters. vol. 9, Nr. 2/3, 1990, (ISSN 0167-577X), p. 87–89, DOI 10.1016/0167-577X(90)90158-I.
  • Joachim Droese: Titannitrid-beschichtete HSS-Spiralbohrer. LeistungsfĂ€higkeit und Verschleißmechanismen. (thĂšse de doctorat de l’UniversitĂ© Technique d'Aix-la-Chapelle, 1987).
  • Reimar Gehrke: Reaktionen des Titan-Nitrid bei hohen Temperaturen. Clausthal 1967 (thĂšse de doctorat de l’UniversitĂ© de Clausthal, 1967).
  • A. MĂŒnster:Eigenschaften und Anwendung von Titannitrid und Titancarbid. In: Angewandte Chemie. vol. 69, no 9, 1957, p. 281–290, DOI 10.1002/ange.19570690902.

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