Trichlorure de phosphoryle

Le trichlorure de phosphoryle réagit avec l'eau et les alcools pour donner du chlorure d'hydrogène et respectivement de l'acide phosphorique et des esters de phosphate :

POCl₃ + 3 H₂O → H₃PO₄ + 3 HCl.

POCl₃ peut également réagir avec un acide de Lewis tel que le tétrachlorure de titane selon le schéma réactionnel suivant :

Cl₃P⁺-O⁻ + TiCl₄ → Cl₃P⁺-O⁻-TiCl₄.

Le composé POCl₃·AlCl₃ résultant de l'addition de chlorure d'aluminium sur le trichlorure de phosphoryle est assez stable, de sorte que POCl₃ peut être utilisé pour éliminer le chlorure d'aluminium du mélange résultant d'une réaction de Friedel-Crafts.

POCl₃ réagit avec le bromure d'hydrogène en présence de chlorure d'aluminium pour former le tribromure de phosphoryle POBr₃.

Le trichlorure de phosphoryle peut être préparé par action de l'oxygène O₂ sur le trichlorure de phosphore PCl₃ à 20-25 °C (l'air est inefficace) :

2 PCl₃ + O₂ → 2 O=PCl₃.

Une synthèse alternative fait appel à la réaction du pentachlorure de phosphore PCl₅ avec le pentoxyde de phosphore P₄O₁₀. Dans la mesure où ces deux composés sont solides, une manière efficace de réaliser la réaction est de chlorer un mélange de PCl₃ et de P₄O₁₀ afin de produire le PCl₅. Au fur et à mesure que le PCl₃ réagit, le POCl₃ devient le solvant de réaction :

6 PCl₃ + 6 Cl₂ → 6 PCl₅.

6 PCl₅ + P₄O₁₀ → 10 POCl₃.

Le pentachlorure de phosphore forme également du trichlorure de phosphoryle avec l'eau, mais cette réaction est plus difficilement contrôlable que la précédente.

Ce produit est utilisé dans l'industrie photovoltaïque pour doper au phosphore les wafers en silicium par diffusion afin de réaliser un dopage n sur un substrat dopé p (typiquement au bore) en vue de réaliser une jonction p-n.