Trifluorosilane
Le trifluorosilane est un composé chimique de formule HF3Si. Synthétisé pour la première fois au début du XXe siècle par Otto Ruff[3], il s'agit d'un gaz incolore et inflammable susceptible de former un mélange explosif avec l'air[4]. Il s'hydrolyse au contact de l'eau et se décompose lentement même à température ambiante. Chauffé à 400 °C, il se décompose rapidement en hydrogène H2, silicium et tétrafluorure de silicium SiF4. Il décompose l'éthanol et l'éther diéthylique et réduit l'acide nitrique concentré.
| Trifluorosilane | |
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| Structure du trifluorosilane | |
| Identification | |
|---|---|
| No CAS | |
| PubChem | 139462 |
| SMILES | |
| InChI | |
| Propriétés chimiques | |
| Formule | HF3Si |
| Masse molaire[1] | 86,088 6 ± 0,000 4 g/mol H 1,17 %, F 66,21 %, Si 32,62 %, |
| Propriétés physiques | |
| T° fusion | −131 °C[2] |
| T° ébullition | −95 °C[2] |
| Masse volumique | 3,52 g·L-3[2] |
| Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire. | |
Il peut être produit en faisant réagir du trichlorosilane HCl3Si avec du trifluorure d'antimoine SbF3, du fluorure de zinc ZnF2 ou du tétrafluorure de titane TiF4[4] - [5] - [6] :
Il peut également être obtenu par pyrolyse à partir de difluorosilane SiH2F2[7].
Notes et références
- Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
- (en) William M. Haynes, CRC Handbook of Chemistry and Physics, 93e éd., CRC Press, 2016, p. 87. (ISBN 978-1-4398-8050-0)
- (de) Helmut Werner, Geschichte der anorganischen Chemie Die Entwicklung einer Wissenschaft in Deutschland von Döbereiner bis heute, John Wiley & Sons, 2016, p. 38. (ISBN 978-3-527-33907-5)
- (de) Georg Brauer, en collaboration avec Marianne Baudler, Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie, 3e édition révisée, vol. I, Ferdinand Enke, Stuttgart 1975, p. 254. (ISBN 3-432-02328-6)
- (en) C. C. Addison, Inorganic Chemistry of the Main-Group Elements, Royal Society of Chemistry, 1973, p. 188. (ISBN 0-85186-752-9)
- (en) Leopold Gmelin, Silicon: Supplement volume, Springer-Verlag, 1996, p. 82. (ISBN 3-540-93728-5)
- (en) Theodore M. Besmann, Proceedings of the Thirteenth International Conference on Chemical Vapor Deposition, The Electrochemical Society, 1996, p. 203. (ISBN 1-56677-155-2)