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Hexachlorodisilane

L'hexachlorodisilane est un composĂ© chimique de formule Si2Cl6. Il se prĂ©sente comme un liquide incolore et transparent qui fume au contact de l'air et est sensible Ă  l'hydrolyse[3]. Comme tous les perchlorosilanes SinCl2n+2 avec n compris entre 2 et 6, il peut ĂŞtre obtenu en faisant rĂ©agir du siliciure de calcium CaSi2 avec du chlore Cl2 entre 230 et 250 °C[3] - [4] :

CaSi2 + 4 Cl2 ⟶ Si2Cl6 + CaCl2.
Hexachlorodisilane
Image illustrative de l’article Hexachlorodisilane
Structure de l'hexachlorodisilane
Identification
No CAS 13465-77-5
No ECHA 100.033.353
No CE 236-704-1
PubChem 83497
SMILES
InChI
Apparence liquide incolore[1]
Propriétés chimiques
Formule Cl6Si2Si2Cl6
Masse molaire[2] 268,889 ± 0,013 g/mol
Cl 79,11 %, Si 20,89 %,
Propriétés physiques
T° ébullition 144 à 145,5 °C[1]
Masse volumique 1,562 g·cm-3[1] à 25 °C
Précautions
SGH[1]
SGH05 : Corrosif
Danger
H314, EUH014, P280, P310 et P305+P351+P338
Transport[1]
-

Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire.

Il est également possible de le produire en faisant réagir du dichlorure de silicium SiCl2 ou du silicium avec du chlore Cl2 :

2 SiCl2 + Cl2 ⟶ Si2Cl6 ;
2 Si + 3 Cl2 ⟶ Si2Cl6.

Il est stable dans l'air et l'azote jusqu'à des températures d'au moins 400 °C pendant plusieurs heures, mais se décompose même à température ambiante en dodécachloronéopentasilane Si(SiCl3)4 et en tétrachlorure de silicium SiCl4 lorsqu'il est mis en présence de bases de Lewis[5] :

4 Si2Cl6 ⟶ 3 SiCl4 + Si(SiCl3)4.

Cette conversion est utilisée pour la réalisation de certains composants en silicium dans l'industrie des semiconducteurs, notamment des cellules photovoltaïques[6].

Notes et références

  1. Fiche Sigma-Aldrich du composé Hexachlorodisilane 96%, consultée le 12 février 2021.
  2. Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
  3. (de) Georg Brauer, en collaboration avec Marianne Baudler, Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie, 3e éd. révisée, vol. 1, Ferdinand Enke, Stuttgart 1975, p. 657. (ISBN 3-432-02328-6)
  4. (en) E. S. M. Seo, M. Andreoli et R. Chiba, « Silicon tetrachloride production by chlorination method using rice husk as raw material », Journal of Materials Processing Technology, vol. 141, no 3,‎ , p. 351-356 (DOI 10.1016/S0924-0136(03)00287-5, lire en ligne)
  5. (en) H. J. Emeléus et Muhammad Tufail, « Reaction of hexachlorodisilane with bases and alkyl halides », Journal of Inorganic and Nuclear Chemistry, vol. 29, no 8,‎ , p. 2081-2084 (DOI 10.1016/0022-1902(67)80468-8, lire en ligne)
  6. (en) Walter Simmler, « Silicon Compounds, Inorganic », Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry,‎ (DOI 10.1002/14356007.a24_001, lire en ligne)
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