Borohydrure d'hafnium

Le borohydrure d'hafnium est un composé chimique de formule Hf(BH₄)₄. Il s'agit d'un complexe d'hafnium(IV) et d'ions tétrahydruroborate(III) BH₄⁻. C'est le plus volatil des composés de l'hafnium[2], ce qui en fait un précurseur de choix pour la production de diborure d'hafnium HfB₂ par dépôt chimique en phase vapeur (CVD)[3] - [4] - [5].

Identification
Borohydrure d'hafnium

Structure du borohydrure d'hafnium
N^o CAS	37274-93-4
PubChem	135232588
Propriétés chimiques
Formule	H₁₆B₄Hf
Masse molaire[1]	237,86 ± 0,05 g/mol H 6,78 %, B 18,18 %, Hf 75,04 %,

Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire.

Notes et références

Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
(en) H. R. Hoekstra, J. J. Katz, « The Preparation and Properties of the Group IV-B Metal Borohydrides », Journal of the American Chemical Society, vol. 71, n^o 7,‎ 1949, p. 2488-2492 (lire en ligne) DOI 10.1021/ja01175a073
(en) S. T. Schwab, C. A. Stewart, K. W. Dudeck, S. M. Kozmina, J. D. Katz, B. Bartram, E. J. Wuchina, W. J. Kroenke et G. Courtin, « Polymeric precursors to refractory metal borides », Journal of Materials Science, vol. 39, n^o 19,‎ octobre 2004, p. 6051-6055 (lire en ligne) DOI 10.1023/B:JMSC.0000041701.01103.41
(en) Sreenivas Jayaraman, Yu Yang, Do Young Kim, Gregory S. Girolami et John R. Abelson, « Hafnium diboride thin films by chemical vapor deposition from a single source precursor », Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, vol. 23, n^o 6,‎ novembre 2005, p. 1619-1625 DOI 10.1116/1.2049307
(en) Yu Yang, Sreenivas Jayaraman, Do Young Kim, Gregory S. Girolami et John R. Abelson, « Crystalline texture in hafnium diboride thin films grown by chemical vapor deposition », Journal of Crystal Growth, vol. 294, n^o 2,‎ 4 septembre 2006, p. 389-395 (lire en ligne) DOI 10.1016/j.jcrysgro.2006.05.035

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